2025中国先进制程芯片领域10大事件#华鹿Ai·中国制造2035指数


寒武纪思元590大规模量产:Chiplet技术支撑大模型

寒武纪7nm芯片思元590量产,算力128TOPS,通过Chiplet技术多芯协同,支撑智能驾驶与智慧城市AI算力需求

中芯国际N+3工艺量产:国产5nm制程突破封锁

2025年12月,中芯国际基于DUV+SAQP技术的N+3工艺(等效5nm)量产,晶体管密度提升25%,功耗降30%,成本仅EUV方案1/5,为AI、HPC等提供自主制造基础

小米玄戒O1发布:首款国产3nm手机SoC问世

5月,小米发布自研3nm SoC玄戒O1,CPU能效提40%、GPU算力增50%,首发小米15S Pro,标志国产设计能力比肩国际,年底出货破千万片

华为麒麟9020回归:7nm工艺性能跃升

9月,华为麒麟9020(中芯7nm工艺)搭载Mate 70系列上市,整机性能提36%,验证中芯成熟制程稳定性,推动国产高端手机份额回升

长江存储反向授权三星:Xtacking技术全球领跑

长江存储向三星授权3D NAND核心Xtacking技术,打破国际壁垒;10月三期产线全用国产设备,全球份额破10%,领跑存储自主化

芯德半导体首创2.5D封装:国产方案破解集成瓶颈

江苏芯德推出全球首个2.5D封装方案,密度提400%、延迟降60%、功耗降35%,为AI加速卡等高端芯片提供国产集成解决方案

华为昇腾910B量产:3nm AI训练芯片对标国际

华为昇腾910B采用3nm工艺量产,算力256TOPS,支持百亿参数大模型训练,应用于自动驾驶与智能计算中心,成国产AI芯片标杆

中微5nm刻蚀机入台积电:设备国产化里程碑

中微5nm刻蚀机通过台积电验证,采用原子层刻蚀技术,打破ASML垄断,标志中国高端半导体设备实现关键技术突破

中芯N+2试产:7nm工艺铺路2nm研发

年底中芯N+2工艺(等效7nm)试产成功,性能较14nm提40%;2027年目标风险量产2nm,缩小与国际先进制程差距至1-2年

国产GPU集体上市:算力芯片供给加速

全年摩尔线程、沐曦等募资超280亿,国产GPU在AI训练场景渗透率达23%,部分算力达国际主流85%,缓解进口依赖


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